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Subjects
Class 12 Chemistry Chapter 01: Solutions 4: Vapour Pressure Hard Level 11

वाष्प दाब में सापेक्ष कमी को अणुसंख्य गुण कहने का मुख्य आधार क्या है?

What is the main basis for calling relative lowering of vapour pressure a colligative property?

Author: Muft Shiksha Editorial Team Published:
Correct answer and explanation
Correct Answer

A. यह विलेय कणों की संख्या पर निर्भर करती हैit depends on number of solute particles

Step 1

Concept

अणुसंख्य गुण विलेय कणों की संख्या से तय होते हैं। / Colligative properties depend on the number of solute particles.

Step 2

Why this answer is correct

वाष्प दाब में सापेक्ष कमी विलेय के मोल अंश से जुड़ी है। / Relative lowering of vapour pressure is linked to solute mole fraction.

Step 3

Exam Tip

विलेय की पहचान से अधिक कण संख्या पर ध्यान दें। / Focus on particle number more than solute identity.

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वाष्प दाब में सापेक्ष कमी को अणुसंख्य गुण कहने का मुख्य आधार क्या है? / What is the main basis for calling relative lowering of vapour pressure a colligative property?

Correct Answer: A. यह विलेय कणों की संख्या पर निर्भर करती है / it depends on number of solute particles. Explanation: चरण 1: अणुसंख्य गुण विलेय कणों की संख्या से तय होते हैं। चरण 2: वाष्प दाब में सापेक्ष कमी विलेय के मोल अंश से जुड़ी है। चरण 3: विलेय की पहचान से अधिक कण संख्या पर ध्यान दें। / Step 1: Colligative properties depend on the number of solute particles. Step 2: Relative lowering of vapour pressure is linked to solute mole fraction. Step 3: Focus on particle number more than solute identity.

Why is option A correct in this Chemistry MCQ?

वाष्प दाब में सापेक्ष कमी विलेय के मोल अंश से जुड़ी है। / Relative lowering of vapour pressure is linked to solute mole fraction.

What should I remember for this Chemistry concept?

विलेय की पहचान से अधिक कण संख्या पर ध्यान दें। / Focus on particle number more than solute identity.