Class 12 Chemistry Chapter 01: Solutions 4: Vapour Pressure Hard Level 11

विलयन में अवाष्पशील विलेय जोड़ने पर विलायक का वाष्प दाब घटता है, इसका सबसे सही सूक्ष्म कारण क्या है?

When a non-volatile solute is added to a solvent, why does the solvent vapour pressure decrease at molecular level?

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Correct Answer

A. विलायक अणुओं की सतह से निकलने की प्रवृत्ति घटती हैescaping tendency of solvent molecules from surface decreases

Step 1

Concept

A non-volatile solute does not form vapour.

Step 2

Why this answer is correct

It reduces availability and escaping tendency of solvent molecules at the surface.

Step 3

Exam Tip

The decrease is due to reduced escaping tendency, not chemical change. चरण 1: अवाष्पशील विलेय स्वयं वाष्प नहीं बनाता। चरण 2: वह विलायक अणुओं के लिए सतह और मुक्त स्थान की उपलब्धता घटाता है। चरण 3: वाष्प दाब घटने का कारण रासायनिक बदलाव नहीं, वाष्पन प्रवृत्ति में कमी है।

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Chemistry Answer, Explanation and Revision Hints

विलयन में अवाष्पशील विलेय जोड़ने पर विलायक का वाष्प दाब घटता है, इसका सबसे सही सूक्ष्म कारण क्या है? / When a non-volatile solute is added to a solvent, why does the solvent vapour pressure decrease at molecular level?

Correct Answer: A. विलायक अणुओं की सतह से निकलने की प्रवृत्ति घटती है / escaping tendency of solvent molecules from surface decreases. Explanation: चरण 1: अवाष्पशील विलेय स्वयं वाष्प नहीं बनाता। चरण 2: वह विलायक अणुओं के लिए सतह और मुक्त स्थान की उपलब्धता घटाता है। चरण 3: वाष्प दाब घटने का कारण रासायनिक बदलाव नहीं, वाष्पन प्रवृत्ति में कमी है। / Step 1: A non-volatile solute does not form vapour. Step 2: It reduces availability and escaping tendency of solvent molecules at the surface. Step 3: The decrease is due to reduced escaping tendency, not chemical change.

Which concept should I revise for this Chemistry MCQ?

A non-volatile solute does not form vapour.

What exam hint can help solve this Chemistry question?

The decrease is due to reduced escaping tendency, not chemical change. चरण 1: अवाष्पशील विलेय स्वयं वाष्प नहीं बनाता। चरण 2: वह विलायक अणुओं के लिए सतह और मुक्त स्थान की उपलब्धता घटाता है। चरण 3: वाष्प दाब घटने का कारण रासायनिक बदलाव नहीं, वाष्पन प्रवृत्ति में कमी है।